华兴集团公司六年多前就开始涉足光刻机，何玉光和席海清数位专家在杨杰的带领下一开始是进行仿造和组装，随后是几乎孤注一掷地研发浸没式步进扫描投影光刻机，随着华兴集团公司在超精密机制造技术、光学技术上和其他方面的全面进步，瑞星科技公司在氟化氩准分子光源的浸没式步进扫描投影光刻机上面终于是技术成熟了。
瑞星科技公司在双工件台浸没式步进扫描光刻机研发过程中是申请了大量的技术专利。
这些技术专利就包括了瑞星科技公司的独家悬浮工件台系统，使得系统能克服摩擦系数和阻尼系数，加工速度和精度是超越机械式和气浮式工件台的。
瑞星科技公司双工件台系统做出来的时间比艾斯摩尔公司还要提前一年，两家在这方面的技术路线很相似，这方面两家都算是做到了世界一流。
这些年何玉光带领着技术队伍一点点将浸没式光刻机大量的技术工程难题一个个的攻克了，申请了大量的技术专利，基本上将其他公司进入浸没式光刻机的技术道路给堵死了，也培养出了一支数百人的核心技术团队。
艾斯摩尔公司和佳能、尼康等公司看到瑞星科技公司申请了这么多的技术专利，要想绕过去是非常困难的，这些公司也是努力地研发波长在157纳米光源的设备。
不过艾斯摩尔推出157纳米光源的干式光刻机最大制程工艺只能做到70纳米，而瑞星科技公司推推出的氟化氩光源光刻机极限制程工艺可以做到28纳米！
中晶微和华越电子公是最先拿到这种浸没式光刻机的晶圆厂，几乎是同时成功流片出了65纳米制程工艺的处理器芯片！
而英特尔和德州仪器和一些A国的晶圆厂今年制程工艺全都卡在了65纳米，艾斯摩尔、佳能、尼康这些公司都是迟迟不能推出更先进制程工艺的光刻机，看样子至少还需要两三年的时间！
这一下子所有的晶圆厂都慌神了。
半导体芯片产业可是A国最核心关键的产业，这时候突然之间在制程工艺上被人追上了，而且在最关键的光刻机设备上掉链子了！
无比震惊的A国这些芯片公司就算是心中有一万个不愿意，却是发现现在只有瑞星科技公司能提供更先进制程工艺的光刻机！
想想之前A国这些官员和国会议员还用这些半导体设备卡HX国的脖子呢，现在却是突然发现自己的制程工艺竟然要依靠HX国来提供了，这个身份地位的转变简直让很多人都要抓狂了！
英特尔等公司和军政界的官员聚在一起也是进行了激烈的讨论，此时赫然发现他们已经是没办法用联合纵横的的手段来弄死这个瑞星科技公司——
光刻机的核心部件和非核心的部件华兴集团公司和HX国国内众多企业公司全都能提供了。
这种无计可施的办法实在是太难受了！
在十月初的时候，A国国会议员卡尔·罗夫带领着商务部等官员以及英特尔、万国商业机器公司、德州仪器、镁光等一众芯片公司的老板进行了访华，而亚当科恩也是在这个团队里面。