为了避免影响光刻效果，李工通过一个小窗口的透镜观察了硅片一会，便将小窗口关闭，让光刻室形成一个暗箱。
张工则在电脑上面挑选着一些掩模模板（电路图母板），随便挑选了其中一个模板，输入尺寸调整。
因为不同的芯片电路图，需要的面积不一样，因此一块硅片可以刻出多少颗芯片，是要根据实际情况来调整的。
工作人员们都是用简单的手势来交流着，在这种高精密的设备周围，哪怕是说话大声一点，都可能影响到光刻结果。
光刻开始。
大约16秒左右，被光刻完成的硅片便出现另一侧的出口。
然后又快速加工了第二块硅片，同样是16秒左右出来。
在检测室外面的赵军、李伟光、方龙等人，都紧紧盯着那两块光刻完成的硅片。
张工和李工用特制的设备，一人负责一块硅片，转移到隔壁的电镜检测室里面。
电子显微镜下，硅片上的电路图纹路和模板一模一样，唯一区别就是尺寸。
“竟然真的可以做到7纳米，不可思议。”李工看着电子显微镜惊叹道。
“不仅仅如此，x射线光刻出来的纹路非常整齐细腻，真是一个杰作。”张工补充道。
俩人对于两块硅片进行了非常全面的检测，最后生成两份检测报告。
在外面干着急的李伟光，看到俩人走出来，迫不及待的上前问道：“结果如何?”
中芯国际和海思众人紧张又期待的看着俩人，希望是好消息，而不是坏消息。
“李总，神光1x射线光刻机的精度确实达到了10～7纳米，甚至比阿斯麦的极紫外光效果更加好。”张工解释道。
呼！众人长出一口气。